據2024年7月公布的ESI（Essential Science Indicators）數據庫最新統計數據顯示，我校電氣與電子信息學院蔣文波教授團隊發表的論文“Lithography Alignment Techniques Based on Moiré Fringe”再次入選物理學領域ESI全球Top-1%高被引論文（Highly Cited Papers）。

 據悉，該論文已于2024年3月、5月連續兩次入選ESI高被引論文，2024年7月是第三次入選，這表明團隊在光刻對準領域的研究成果受到了國內外同行的廣泛關注。

 論文詳細討論了莫爾條紋光刻對準技術的發展歷程、對準原理和整體流程；全面分析了影響對準精度的主要因素，并給出了相應的優化方案；最后從標記結構、對準方案和對準圖像算法處理等方面深入剖析了莫爾條紋光刻對準技術的發展趨勢和研究熱點。

 該研究工作受到國家自然科學基金和四川省杰出青年科學基金的資助。蔣文波教授為該論文的第一作者及通訊作者，2020級電子信息專業碩士研究生王畫然為論文的第二作者。

連續三期入選ESI高被引論文的證明

(a) DMD數字光柵對準系統                  (b) 數字光柵對準標記

基于數字光柵的光刻對準莫爾條紋產生方法

蔣文波教授研究團隊介紹：  

蔣文波教授研究團隊長期聚焦于微/納光刻關鍵技術、深度學習圖像處理等領域的研究，取得了一系列研究成果。已獲批國家自然科學基金2項、四川省杰出青年科學基金1項、其余各類項目近20項；發表SCI論文40余篇，其中入選ESI-1‰論文1篇、ESI-1%論文1篇；獲授權美國發明專利1件、荷蘭發明專利2件、中國發明專利近20件；出版英文學術專著1部。

其中，團隊負責人蔣文波教授曾入選四川省學術和技術帶頭人后備人選（2014年）、四川省天府峨眉計劃（2020年）、四川省杰出青年科學基金（2021年）、郫都區菁英百人培養計劃（2021年）、西華大學西華學者（2019年）、西華大學青年學者（2014年）等人才稱號或項目。