報 告 人：楊志（副教授，碩士生導師）

報告時間：2023年11月29日 下午14:00 -15:30

報告地點：宜賓校區 Y1-311多媒體教室

主辦單位：材料科學與工程學院

報告人簡介：

楊志，博士，副教授，碩士生導師，2017年12月畢業于西安交通大學，同年加入西華大學材料科學與工程學院，2019年入選西華大學青年后備人才支持計劃，現任中國腐蝕與防護學會第十屆緩蝕劑與水處理專業委員會委員，四川省人社廳專家服務團專家。近年來，參與或主持各類科研項目10余項，在國內外學術期刊發表SCI論文20余篇，申請國家專利5項。研究方向包括：材料物性的理論計算、新能源材料、先進薄膜材料及性能表征等。

內容簡介：原子層沉積（ALD）是一種適合于研制最新的和前沿性的產品的薄膜制備技術，也是一種用于納米技術研究的有效方法，可在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。報告介紹了原子層沉積的基本原理，氧化鉿生長過程中的表面吸附與生長模式演變，氧化鉿薄膜表面動態演化及薄膜生長行為演變等。

歡迎納米技術專業及相關領域老師、同學參加！